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案例應用產品
OA-ICOS 工業用痕量氣體分析儀能以最高的靈敏度、準確度、精度和響應速度，滿足客戶最苛刻的要求：
? 對半導體晶圓廠的工藝流程和為了人身健康與安全而進行氣載分子污染物（AMC）監測
? 前開式晶圓傳送盒（FOUP）和氣相沉積室監測
OA-ICOS AMC 監測分析儀能以極高的精度和靈敏度，對環境空氣或惰性工業氣流中的氟化氫、氯化氫、氨和水蒸氣進行高度靈敏地測量。該系列分析儀適用于進行半導體應用中的氣載污染物監測、FOUP 監測和各種惰性氣體背景下的測量，能以最佳的整體性能報告寬濃度范圍內的測量結果。
該 OA-ICOS 痕量氣體分析儀采用我們已獲專利的離軸 ICOS 技術，也是第四代光腔增強吸收技術。該離軸ICOS 技術相比傳統的光腔衰蕩光譜（CRDS）技術具有許多優勢，包括性能更加穩健和可靠，測量時間更短，光腔和鏡片可現場維修等。
所有 ABB 儀器都配有內部計算機（Linux OS），能將每次分析的結果和被測氣體的完整光譜都保存到內部硬盤上以實現長期無人值守的運行。數據可以通過模擬、數字（RS232）和 Modbus 輸出連續地導出。而且，儀器可以通過互聯網進行遠程控制。通過遠程訪問，用戶可在無需到達現場的情況下，控制儀器，獲取數據，以及診斷故障。這些 OA-ICOS 分析儀操作簡單，啟動迅速（只需幾分鐘），無需現場標定，且預防維護需求極少。和所有ABB 分析儀一樣，OA-ICOS 工業痕量氣體分析儀由我們專業的服務和技術支持人員來支持。
關鍵特性
? 擁有 HF、HCI 和 NH? 中的單一氣體或多氣體配置
? 還能報告準確和精確的 H?O 測量結果
? 標配 0 - 5 V 及模擬 4 - 20 mA 輸出，可選 Modbus TCP
? 優化的數據處理，使得能以最優的性能測量亞 ppb級濃度
? 主密碼保護可確保分析儀和數據安全
? 定制的標定和性能認證文件包
? 通過觸摸屏進行氣體濃度和分析儀狀態的數字化顯示
? 優化的零氣性能，確保可靠地確認過程事件
? 在煉油、石化、精細化工與其他工業領域內的痕量氣體高精度檢測 (H2S, C2 H2, NH3)
? 氣體泄漏檢測
? 在半導體潔凈室內確保工人生命安全與產品質量所進行的實時痕量氣體檢測(NH3, HF, HCL)
案例應用產品
